En el taller de fabricación de semiconductores, los requisitos del proceso de fabricación de chips en cuanto a condiciones ambientales y precisión de los equipos son extremos, y cualquier mínima desviación puede provocar una disminución significativa en el rendimiento de los chips. La plataforma de movimiento de pórtico de precisión XYZT se basa en componentes de granito que, junto con otras partes de la plataforma, constituyen una base sólida para lograr una precisión a nanoescala.
Excelentes propiedades de bloqueo de vibraciones
En el taller de fabricación de semiconductores, el funcionamiento de los equipos periféricos y el movimiento del personal pueden generar vibraciones. La estructura interna de los componentes de granito es densa y uniforme, con características de amortiguación naturalmente elevadas, actuando como una eficaz barrera contra las vibraciones. Cuando la vibración externa se transmite a la plataforma XYZT, el componente de granito atenúa eficazmente más del 80 % de la energía de vibración y reduce la interferencia de la vibración en la precisión del movimiento de la plataforma. Al mismo tiempo, la plataforma está equipada con un sistema de guía de flotación neumática de alta precisión que funciona en conjunto con los componentes de granito. La guía de flotación neumática utiliza una película de gas estable formada por gas a alta presión para lograr el movimiento de suspensión sin contacto de las partes móviles de la plataforma y reducir las pequeñas vibraciones causadas por la fricción mecánica. En conjunto, ambos sistemas garantizan que la precisión de posicionamiento de la plataforma se mantenga siempre a nivel nanométrico en procesos clave como la litografía y el grabado de chips, y evitan la desviación de los patrones de circuitos de los chips causada por la vibración.
Excelente estabilidad térmica
La fluctuación de temperatura y humedad en el taller influye considerablemente en la precisión de los equipos de fabricación de chips. El coeficiente de dilatación térmica del granito es muy bajo, generalmente de 5 a 7 × 10⁻⁶/℃, por lo que su tamaño permanece prácticamente inalterado ante los cambios de temperatura. Incluso si la diferencia de temperatura entre el día y la noche en el taller o la generación de calor de los equipos provoca fluctuaciones en la temperatura ambiente, los componentes de granito se mantienen estables, evitando la deformación de la plataforma debido a la dilatación y contracción térmica. Asimismo, el sistema inteligente de control de temperatura integrado en la plataforma monitoriza la temperatura ambiente en tiempo real, ajusta automáticamente el sistema de climatización y disipación de calor, y mantiene la temperatura del taller a 20 °C ±1 °C. Gracias a la estabilidad térmica del granito, se garantiza que, durante el funcionamiento prolongado de la plataforma, la precisión de movimiento de cada eje cumpla siempre con los estándares de precisión nanométrica para la fabricación de chips, asegurando así la exactitud del patrón de litografía y la uniformidad de la profundidad de grabado.
Satisfacer las necesidades de un entorno limpio.
El taller de fabricación de semiconductores requiere un alto grado de limpieza para evitar que las partículas de polvo contaminen los chips. El granito, por sí mismo, no genera polvo y su superficie lisa dificulta su absorción. La plataforma, en su conjunto, adopta un diseño de estructura totalmente cerrada o semicerrada para reducir la entrada de polvo externo. El sistema interno de circulación de aire está conectado al sistema de climatización del taller para garantizar que la limpieza del aire interno alcance el nivel requerido para la fabricación de chips. En este entorno limpio, los componentes de granito no se ven afectados por la erosión del polvo, y los componentes clave, como los sensores de alta precisión y los motores de la plataforma, pueden operar de forma estable, proporcionando una garantía de precisión nanométrica continua y fiable para la fabricación de chips y ayudando a la industria de semiconductores a alcanzar un nivel de proceso superior.
Fecha de publicación: 14 de abril de 2025