En el taller de fabricación de semiconductores, los requisitos del proceso de fabricación de chips en cuanto a condiciones ambientales y precisión de los equipos son extremos, y cualquier mínima desviación puede provocar una disminución significativa del rendimiento del chip. La plataforma de movimiento de pórtico de precisión XYZT se basa en componentes de granito que colaboran con otras partes de la plataforma para construir una base sólida que permita lograr una precisión a escala nanométrica.
Excelentes propiedades de bloqueo de vibraciones.
En el taller de fabricación de semiconductores, el funcionamiento de equipos periféricos y el desplazamiento del personal pueden causar vibraciones. La estructura interna de los componentes de granito es densa y uniforme, con características naturales de alta amortiguación, actuando como una eficiente barrera antivibraciones. Cuando la vibración externa se transmite a la plataforma XYZT, el componente de granito puede atenuar eficazmente más del 80 % de la energía de vibración y reducir la interferencia de la vibración en la precisión de movimiento de la plataforma. Además, la plataforma está equipada con un sistema de guía de flotación neumática de alta precisión, que funciona en conjunto con los componentes de granito. La guía de flotación neumática utiliza una película de gas estable formada por gas a alta presión para lograr el movimiento de suspensión sin contacto de las partes móviles de la plataforma y reducir las pequeñas vibraciones causadas por la fricción mecánica. Juntos, ambos garantizan que la precisión de posicionamiento de la plataforma se mantenga siempre a nivel nanométrico en procesos clave como la litografía y el grabado de chips, y evitan la desviación de los patrones del circuito del chip causada por la vibración.
Excelente estabilidad térmica
Las fluctuaciones de temperatura y humedad en el taller influyen considerablemente en la precisión de los equipos de fabricación de chips. El coeficiente de expansión térmica del granito es muy bajo, generalmente de 5-7 × 10⁻⁶/℃, y su tamaño prácticamente no varía con los cambios de temperatura. Incluso si la diferencia de temperatura entre el día y la noche en el taller o la producción de calor del equipo provoca fluctuaciones en la temperatura ambiente, los componentes de granito se mantienen estables, evitando la deformación de la plataforma por expansión y contracción térmica. Al mismo tiempo, el sistema inteligente de control de temperatura de la plataforma monitoriza la temperatura ambiente en tiempo real, ajusta automáticamente el aire acondicionado y los equipos de disipación de calor, y mantiene la temperatura del taller a 20 °C ±1 °C. Gracias a las ventajas de la estabilidad térmica del granito, la plataforma garantiza un funcionamiento a largo plazo y una precisión de movimiento de cada eje que cumpla siempre con los estándares de precisión nanométrica para la fabricación de chips, garantizando así la precisión del patrón litográfico y la uniformidad de la profundidad de grabado.
Satisfacer las necesidades de un medio ambiente limpio
El taller de fabricación de semiconductores debe mantener un alto grado de limpieza para evitar que las partículas de polvo contaminen el chip. El granito, por sí mismo, no produce polvo y su superficie es lisa, lo que dificulta su absorción. La plataforma, en su conjunto, adopta un diseño de estructura totalmente cerrada o semicerrada para reducir la entrada de polvo externo. El sistema de circulación de aire interno está conectado al sistema de aire acondicionado del taller para garantizar que la limpieza del aire interno alcance el nivel requerido para la fabricación de chips. En este entorno limpio, los componentes de granito no afectarán el rendimiento debido a la erosión por polvo, y componentes clave como los sensores y motores de alta precisión de la plataforma también pueden funcionar de forma estable, lo que garantiza una precisión nanométrica continua y fiable para la fabricación de chips y ayuda a la industria de semiconductores a alcanzar un nivel de proceso superior.
Hora de publicación: 14 de abril de 2025