En sectores como la fabricación de semiconductores y los instrumentos de medición de precisión, la exactitud de las plataformas de granito determina directamente la calidad operativa del equipo. Para garantizar que la exactitud de la plataforma cumpla con los estándares, se deben realizar esfuerzos desde dos aspectos: la detección de indicadores clave y el cumplimiento de las normas estándar.

Detección de indicadores clave: Control multidimensional de la precisión
Detección de planitud: Determinación de la "planitud" del plano de referencia
La planitud es el indicador clave de las plataformas de precisión de granito y se suele medir mediante interferómetros láser o niveles electrónicos. El interferómetro láser puede medir con precisión las mínimas ondulaciones de la superficie de la plataforma emitiendo un haz láser y utilizando el principio de interferencia de la luz, con una precisión submicrónica. El nivel electrónico realiza mediciones mediante múltiples desplazamientos y genera un mapa de contorno tridimensional de la superficie de la plataforma para detectar protuberancias o depresiones locales. Por ejemplo, las plataformas de granito utilizadas en las máquinas de fotolitografía de semiconductores deben tener una planitud de ±0,5 μm/m, lo que significa que la diferencia de altura en un metro de longitud no debe superar el medio micrómetro. Solo mediante equipos de detección de alta precisión se puede garantizar este estricto estándar.
2. Detección de rectitud: Garantizar la rectitud del movimiento lineal.
En plataformas que soportan piezas móviles de precisión, la rectitud es fundamental. Los métodos comunes para su detección son el método del hilo o el colimador láser. El método del hilo consiste en suspender hilos de acero de alta precisión y comparar la distancia entre la superficie de la plataforma y los hilos para determinar la rectitud. El colimador láser utiliza las características de propagación lineal del láser para detectar el error lineal de la superficie de instalación del riel guía de la plataforma. Si la rectitud no cumple con el estándar, provocará que el equipo se desplace durante el movimiento, afectando la precisión del procesamiento o la medición.
3. Detección de rugosidad superficial: Garantizar la finura del contacto
La rugosidad superficial de la plataforma afecta al ajuste de los componentes. Generalmente, se utiliza un rugosímetro de palpador o un microscopio óptico para su detección. El instrumento de palpador registra las variaciones de altura del perfil microscópico al entrar en contacto con la superficie de la plataforma mediante una punta fina. Los microscopios ópticos permiten observar directamente la textura superficial. En aplicaciones de alta precisión, la rugosidad superficial de las plataformas de granito debe controlarse a Ra ≤ 0,05 μm, lo que equivale a un efecto espejo, garantizando así un ajuste perfecto de los componentes de precisión durante la instalación y evitando vibraciones o desplazamientos causados por holguras.
Los estándares de precisión se rigen por las normas internacionales y el control interno de la empresa.
Actualmente, a nivel internacional, las normas ISO 25178 y GB/T 24632 se utilizan comúnmente como base para determinar la precisión de las plataformas de granito, y existen clasificaciones claras para indicadores como la planitud y la rectitud. Además, las empresas manufactureras de alta gama suelen establecer estándares de control interno más estrictos. Por ejemplo, el requisito de planitud para la plataforma de granito de la máquina de fotolitografía es un 30 % superior al estándar internacional. Al realizar pruebas, los datos medidos deben compararse con las normas correspondientes. Solo las plataformas que cumplen íntegramente con las normas pueden garantizar un rendimiento estable en equipos de precisión.
La inspección de la exactitud de las plataformas de granito de precisión es un proyecto sistemático. Solo mediante pruebas rigurosas de indicadores clave como la planitud, la rectitud y la rugosidad superficial, y cumpliendo con las normas internacionales y empresariales, se puede garantizar la alta precisión y fiabilidad de la plataforma, sentando así una base sólida para sectores de fabricación de alta gama como los semiconductores y los instrumentos de precisión.
Fecha de publicación: 21 de mayo de 2025
