En el taller de fabricación de semiconductores, los requisitos del proceso de fabricación de chips en cuanto a condiciones ambientales y precisión del equipo son extremos, y cualquier mínima desviación puede provocar una disminución significativa en el rendimiento de los chips. La plataforma de movimiento de pórtico de precisión XYZT se basa en componentes de granito que, en conjunto con otras partes de la plataforma, proporcionan una base sólida para lograr una precisión a nanoescala.
Excelentes propiedades de bloqueo de vibraciones
En el taller de fabricación de semiconductores, el funcionamiento de los equipos periféricos y el tránsito del personal pueden generar vibraciones. La estructura interna de los componentes de granito es densa y uniforme, con una alta capacidad de amortiguación natural, actuando como una eficaz barrera antivibración. Cuando la vibración externa se transmite a la plataforma XYZT, el componente de granito atenúa eficazmente más del 80 % de la energía de vibración y reduce su impacto en la precisión del movimiento de la plataforma. Asimismo, la plataforma está equipada con un sistema de guía neumática de alta precisión, que funciona en conjunto con los componentes de granito. La guía neumática utiliza la película de gas estable formada por gas a alta presión para lograr el movimiento de suspensión sin contacto de las partes móviles de la plataforma y reducir las pequeñas vibraciones causadas por la fricción mecánica. En conjunto, ambos sistemas garantizan que la precisión de posicionamiento de la plataforma se mantenga siempre a nivel nanométrico en procesos clave como la litografía y el grabado de chips, y evitan la desviación de los patrones de los circuitos impresos causada por la vibración.
Excelente estabilidad térmica
Las fluctuaciones de temperatura y humedad en el taller influyen considerablemente en la precisión de los equipos de fabricación de chips. El coeficiente de dilatación térmica del granito es muy bajo, generalmente entre 5 y 7 × 10⁻⁶/°C, por lo que su tamaño permanece prácticamente invariable ante los cambios de temperatura. Incluso si la diferencia de temperatura entre el día y la noche en el taller o la producción de calor de los equipos provocan fluctuaciones en la temperatura ambiente, los componentes de granito se mantienen estables, evitando la deformación de la plataforma por dilatación y contracción térmica. Asimismo, el sistema inteligente de control de temperatura integrado en la plataforma monitoriza la temperatura ambiente en tiempo real, ajusta automáticamente el aire acondicionado y los sistemas de disipación de calor, y mantiene la temperatura del taller a 20 °C ± 1 °C. Gracias a la estabilidad térmica del granito, se garantiza que, durante el funcionamiento prolongado de la plataforma, la precisión de movimiento de cada eje cumpla siempre con los estándares de precisión nanométrica de la fabricación de chips, asegurando así la exactitud del tamaño del patrón de litografía y la uniformidad de la profundidad de grabado.
Satisfacer las necesidades de un medio ambiente limpio
El taller de fabricación de semiconductores requiere un alto grado de limpieza para evitar que las partículas de polvo contaminen los chips. El granito, un material que no genera polvo y con una superficie lisa, no lo absorbe fácilmente. La plataforma, en su conjunto, adopta un diseño de estructura totalmente cerrada o semicerrada para minimizar la entrada de polvo externo. El sistema interno de circulación de aire está conectado al sistema de aire acondicionado del taller para garantizar que la limpieza del aire interno alcance el nivel exigido para la fabricación de chips. En este entorno limpio, los componentes de granito no se ven afectados por la erosión causada por el polvo, y componentes clave como los sensores y motores de alta precisión de la plataforma funcionan de forma estable, lo que proporciona una garantía de precisión nanométrica continua y fiable para la fabricación de chips y contribuye a que la industria de semiconductores alcance un nivel de proceso superior.
Fecha de publicación: 14 de abril de 2025